| BX-193-50X-D150 | |
| 产品型号 | BX-193-50X-D150 |
| 工作波长 | 193nm |
| 最大入射直径 | 8mm |
| 最大出射直径 | 150mm |
| L1(总长) | 449.8mm |
| 外径 | 176mm |
| 入射端螺纹 | M32X1 |
| 出射端螺纹 | M168X1 |
可调式紫外激光扩束镜,工作波长193nm,倍率50倍,最大150mm出光口径
产品概述
这是一款专为高端科研与工业应用设计的超高倍率激光扩束镜,工作波长严格匹配193nm深紫外激光,提供高达50倍的光束扩展能力与150mm的超大通光口径。产品采用深紫外级特种光学材料与抗损伤镀膜工艺,确保极高的能量通过率与长期功率稳定性,是光刻、前沿科研、超高精度微加工等领域的理想光束控制核心部件。
核心亮点
1. 50倍超高倍率光束扩展
提供极致的光束扩展比,显著减小发散角,实现超远距离准直传输。
专为需要极长焦深或超精细聚焦光斑的顶级应用设计。
2. 150mm超大通光口径
支持大直径入射光束,最大限度收集光能量,适合高功率激光系统。
有效降低系统内的能量密度,提升光学元件的安全性与耐用性。
3. 专为193nm深紫外波段优化
所有光学元件均采用深紫外级别熔融石英、氟化钙等深紫外专用材料,保证193nm处高透过率。
多层抗损伤镀膜,有效抵抗193nm激光辐照,延长使用寿命。
4. 卓越的光学性能
波前畸变优于λ/10 @ 193nm,确保光束质量无损传输。
精密机械结构,提供优异的指向稳定性与环境适应性。
典型应用
高端光刻技术研发:用于极紫外(EUV)相关研究、先进光刻光源开发。
前沿科学研究:量子光学、超快现象研究、高分辨率光谱学等需要超高精度光束控制的实验室。
超高精度微纳加工:用于制造光子晶体、微光学元件等亚微米至纳米级结构。
精密干涉测量系统:用于引力波探测、超大尺寸光学元件面形检测等顶级计量领域。
支持定制
我们可根据您的具体需求,提供全方位定制服务:
倍率与口径的调整
特定的机械接口(法兰、支架等)
真空或特殊气体环境适配版本
针对特定功率或脉冲特性的优化设计

| 外观尺寸 | ZEMAX 设计文件 | 三维 STEP |
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